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超寬帶減反射膜的設計與制備研究

日期:2025-08-09 15:52
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摘要:超寬帶減反射膜的設計與制備研究

超寬帶減反射膜的設計與制備研究


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上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件的高科技企業,公司2005年成立在上海閔行零號灣創業園區,專業的光電鍍膜公司,技術背景依托中國科學院,卷柔產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工;光學透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監控等光學鍍膜產品的開發和生產,為全球客戶提供上等的產品和服務。

摘要:本文聚焦于超寬帶減反射膜的設計與制備。首先闡述了超寬帶減反射膜在現代光學系統中的關鍵作用及研究背景,接著詳細分析了其設計原理,包括基于多層膜干涉理論的傳統設計方法以及引入梯度折射率概念的**設計思路。在制備技術方面,探討了電子束蒸發、原子層沉積、傾斜沉積等多種技術的應用及優缺點。通過實驗研究,成功制備出具有特定性能的超寬帶減反射膜,并對其性能進行了**表征。研究結果為超寬帶減反射膜在高功率激光系統、太陽能光伏等領域的廣泛應用提供了重要參考。


一、引言

在現代光學系統中,如高功率激光裝置、高性能光學成像設備、太陽能光伏系統等,對光學元件的透過率要求極高。表面反射會導致光能損失,降低系統效率,同時反射光還可能引發雜散光干擾,影響系統的成像質量或工作穩定性。超寬帶減反射膜能夠在很寬的波長范圍內有效降低光學元件表面的反射率,顯著提高系統的光學性能,因此成為光學薄膜領域的研究熱點。

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二、超寬帶減反射膜的設計原理

2.1 多層膜干涉理論

傳統的寬帶減反射膜常基于多層膜干涉原理設計,通過高低折射率材料交替疊加形成膜系。根據菲涅爾公式,當光在不同折射率介質界面傳輸時,反射光和折射光的振幅和相位會發生變化。通過**控制各膜層的厚度和折射率,使各層反射光在特定波長范圍內相互干涉相消,從而實現減反射效果。然而,這種方法能實現的減反射帶寬受限于材料折射率和膜系結構,難以滿足超寬帶(如從可見光到近紅外甚至更長波段)的減反射需求。

2.2 梯度折射率設計

為突破傳統多層膜的局限,引入梯度折射率概念。通過制備具有連續變化折射率的膜層,使光在膜層中傳播時,折射率逐漸過渡,減少因折射率突變引起的反射。理想情況下,當膜層折射率從空氣折射率連續漸變到基底材料折射率時,理論上可實現全波段的零反射。實際中,可通過多種方式實現梯度折射率,如傾斜沉積過程中**調控孔隙率,使膜層從高孔隙率(低折射率)到低孔隙率(接近材料本征折射率)漸變;或采用特定工藝在材料中引入納米級孔隙,人為降低材料的有效折射率并實現梯度分布。

三、超寬帶減反射膜的制備技術

3.1 電子束蒸發技術

電子束蒸發是一種常用的薄膜制備技術。在高真空環境下,電子槍發射高能電子束轟擊蒸發源材料,使其蒸發并沉積在基底上形成薄膜。該技術的優點是能夠**控制膜層厚度,可蒸發多種材料。在制備超寬帶減反射膜時,可通過控制蒸發速率和時間,**控制各層膜的厚度。但對于制備具有復雜折射率分布的膜層,如梯度折射率膜層,單獨使用電子束蒸發技術存在一定困難。例如,研究人員采用電子束蒸發技術制備了 Al?O?薄膜,通過后續處理來改變其微觀結構以實現寬帶減反性能 。

3.2 原子層沉積技術

原子層沉積(ALD)技術具有厚度**控制、膜層質量高、可在復雜形狀表面實現共形生長等優點。在超寬帶減反射膜制備中,ALD 可**控制膜層厚度和成分,尤其適用于制備納米疊層結構的膜層。通過控制 ALD 循環次數,可**調控納米疊層子層厚度。然而,納米疊層的超薄子層厚度和多界面問題使得基于納米疊層的高光學性能薄膜研制**挑戰,對于寬帶減反射薄膜這種對膜層厚度和折射率敏感的膜系更是如此 。

3.3 傾斜沉積技術

傾斜沉積過程中,由于自遮蔽效應,沉積粒子在基底表面的沉積角度不同,導致膜層具有孔隙率梯度,從而可實現折射率在空氣和近材料本征折射率范圍內的任意調控,為超寬帶減反射薄膜的研制提供了很大靈活性。但傾斜沉積存在明顯的膜厚不均勻性問題,嚴重降低了薄膜的實用性。為解決這一問題,有課題組設計了基于 SiO?膜折射率調控范圍的非連續梯度旋轉方案,結合電子束傾斜沉積技術,成功研制出厚度均勻的高性能 SiO?梯度折射率寬帶減反射膜 。

四、實驗研究

4.1 實驗材料與設備

選用熔融石英作為基底材料,因其具有良好的光學性能和化學穩定性。蒸發源材料包括 SiO?(低折射率材料)和 TiO?(高折射率材料)等。實驗設備主要有高真空電子束蒸發鍍膜機、原子層沉積系統、光譜儀、掃描電子顯微鏡(SEM)等。

4.2 膜系設計與制備

根據梯度折射率設計思路,設計了一種由底部多層干涉疊層和頂部具有梯度低折射率分布的納米結構層組成的超寬帶減反射膜系。首先采用電子束蒸發技術在熔融石英基底上交替沉積 SiO?和 TiO?多層干涉疊層,**控制各層厚度以滿足干涉相消條件。然后,利用傾斜沉積技術在多層干涉疊層頂部制備具有梯度孔隙率的 SiO?納米結構層,通過控制沉積角度和時間來調控孔隙率梯度,進而實現折射率梯度分布。



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上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件的高科技企業,公司2005年成立在上海閔行零號灣創業園區,專業的光電鍍膜公司,技術背景依托中國科學院,卷柔產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工;光學透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監控等光學鍍膜產品的開發和生產,為全球客戶提供上等的產品和服務。

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